廠家勻膠機選購巧概述

選購巧

從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節(jié)

旋轉速度

轉速的快慢和控制度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大，對于要求密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數(shù)據(jù)的。產的某些勻膠機只能提供轉速范圍，并不能確標定實時的轉速?？诘膭蚰z機雖然大分能標定轉速，但是大分轉速度沒有標準認定。建議購買轉速控制方面有認定標準的，比如:美NIST標準等。

真空吸附系統(tǒng)的構

真空泵定要無油的，壓力標定準確，內生產的無油真空泵實在不敢恭維。因為何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導致基片吸附不住而產生"飛片"的情況，還會讓滴膠液不慎入真空管道系統(tǒng)成*堵塞。用過產勻膠機的客戶常常會關心怎么清洗的問題，這點許多外的勻膠機做得不錯，他們有通過聯(lián)動機制，如果真空吸附力不夠的時候，不會開始旋轉。

材質的選擇

對于半導體化行業(yè)的應用來說，材質的選擇尤為關鍵，大分勻膠機采用的是不銹鋼或者普通塑料材質，因為這種材質的成本很低，不銹鋼的對于各類化膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對于較溫度和壓力下易產生變形。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話，將會導致旋涂時，時時低的顛簸狀態(tài)。自然無法得到好的旋涂效果。例如美等型號都是采用天然聚丙烯(NPP)或者聚四氟乙烯(特氟隆，PTFE)材質。這兩種材質具備綠色環(huán)保、節(jié)約資源、重量輕、強度大、抗沖擊性能好、堅固耐用、花紋自然、光澤度好等優(yōu)點。

概述

該設備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種作方式。

送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉，轉速100-9900轉/分(±10轉/分)，起動加速度可調。每道程序的持續(xù)時間，轉速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預烘時間等藝參數(shù)均可通過編程控制。

勻膠機有個或多個滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了多點滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度般在500-1000nm，同晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

烘烤位，有隧道式遠紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按定的升溫速率行烘干。烘烤過程在密封的爐子中行，通過抽真空排除揮發(fā)出來的有害物質。前烘結束后，將晶片送入收片盒內。